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 Modeling and Simulation of Nanoscale Surface Rippling during Plasma Etching of Si under Oblique Ion Incidence 斜离子入射等离子体刻蚀Si纳米级表面纹波的建模与仿真
相关领域
等离子体刻蚀
蚀刻（微加工）
材料科学
离子
等离子体
涟漪
表面光洁度
表面粗糙度
纳米尺度
涟漪
垂直的
光学
纳米技术
化学
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物理
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Hirotaka Tsuda; Yoshinori Takao; Koji Eriguchi; Kouichi Ono 出版日期：2012-08-01 |
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