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Unlocking the Potential of Hafnia Ferroelectrics: Achieving High Reliability via Plasma Frequency Modulation in Very High-Frequency Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition 相关领域
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期刊:ACS Applied Electronic Materials 作者:Ketong Yang; Minhyun Jung; Taeseung Jung; Jae Seok Yoon; Junghyeon Hwang; et al 出版日期:2024-06-24 |
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