Effect of N2 anneal on thin HfO2 layers studied by conductive atomic force microscopy

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标题	Effect of N2 anneal on thin HfO2 layers studied by conductive atomic force microscopy 相关领域导电原子力显微镜导电体材料科学原子力显微镜退火（玻璃）薄膜同种类的电流密度分析化学（期刊）凝聚态物理纳米技术复合材料化学热力学物理色谱法量子力学
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2003.12.032
DOI	10.1016/j.mee.2003.12.032 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：J. Pétry; Wilfried Vandervorst; Xavier Blasco 出版日期：2004-01-16
求助人	玛卡巴卡在 2025-10-29 16:24:19 发布自北京，悬赏 10 积分
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