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 Imaging of Metal Ions and Nanoparticles on Structured Silicon Surface Using Laser Ablation-Inductively Coupled Plasma-Mass Spectrometer for Contamination Control in Semiconductor Manufacturing Process 使用激光烧蚀-电感耦合等离子体-质谱仪对结构化硅表面上的金属离子和纳米颗粒进行成像，用于半导体制造过程中的污染控制
相关领域
激光烧蚀
硅
材料科学
污染
半导体
半导体器件制造
电感耦合等离子体质谱法
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期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 作者：Heung Bin Lim; Katherine M. McLachlin; Ciaran O’Connor; Daniel R. Wiederin; Hyuck Ki Hong 出版日期：2021-03-10 |
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