Imaging of Metal Ions and Nanoparticles on Structured Silicon Surface Using Laser Ablation-Inductively Coupled Plasma-Mass Spectrometer for Contamination Control in Semiconductor Manufacturing Process

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标题	Imaging of Metal Ions and Nanoparticles on Structured Silicon Surface Using Laser Ablation-Inductively Coupled Plasma-Mass Spectrometer for Contamination Control in Semiconductor Manufacturing Process 使用激光烧蚀-电感耦合等离子体-质谱仪对结构化硅表面上的金属离子和纳米颗粒进行成像，用于半导体制造过程中的污染控制相关领域激光烧蚀硅材料科学污染半导体半导体器件制造电感耦合等离子体质谱法感应耦合等离子体等离子体烧蚀激光器分析化学（期刊）纳米颗粒质谱法分光计光电子学光学纳米技术化学薄脆饼环境化学色谱法工程类航空航天工程物理生物量子力学生态学
网址	https://doi.org/10.1109/tsm.2021.3065075
DOI	10.1109/tsm.2021.3065075 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 作者：Heung Bin Lim; Katherine M. McLachlin; Ciaran O’Connor; Daniel R. Wiederin; Hyuck Ki Hong 出版日期：2021-03-10
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