Sensitivity analysis for estimating etch-recess in SiGe multilayered structures

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标题	Sensitivity analysis for estimating etch-recess in SiGe multilayered structures 估算SiGe多层结构蚀刻凹槽的灵敏度分析相关领域材料科学薄脆饼临界尺寸光电子学晶体管蚀刻（微加工）灵敏度（控制系统）硅扫描电子显微镜纳米光刻胶不透明度 CMOS芯片光学纳米技术电子工程电气工程复合材料物理图层（电子）电压工程类
网址	https://doi.org/10.1117/12.3010939
DOI	10.1117/12.3010939 doi
其它	期刊：作者：Dipankar Mukherjee; Marinus Hoogesteger; Hamed Sadeghian; Henk Nijmeijer 出版日期：2024-04-10
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