Behavior of tensioactive compounds in the solutions for silicon anisotropic etching

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标题	Behavior of tensioactive compounds in the solutions for silicon anisotropic etching 相关领域蚀刻（微加工）吸附表面张力硅表面粗糙度材料科学图层（电子）化学工程表面光洁度酒复合材料化学有机化学冶金热力学工程类物理
网址	https://doi.org/10.1117/12.2031165
DOI	10.1117/12.2031165 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Irena Zubel; Krzysztof Rola; Joanna Zalewska 出版日期：2013-07-25
求助人	酷炫念柏在 2025-10-31 20:50:31 发布自上海，悬赏 20 积分
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