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  Importance of temperature dependence of interface traps in high-k metal gate stacks for silicon spin-qubit development 高k金属栅极堆叠中界面陷阱的温度依赖性对硅自旋量子位发展的重要性
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Yannick Raffel; Ricardo Olivo; Maik Simon; Leonie Vieler; Raik Hoffmann; et al 出版日期：2023-07-17 |
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