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 Approaching Angstrom-Scale Resolution in Lithography Using Low-Molecular-Mass Resists (<500 Da) 相关领域
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期刊：ACS Nano 作者：Mohammad S. M. Saifullah; Anil Rajak; Kevin Hofhuis; Nikhil Tiwale; Zackaria Mahfoud; et al 出版日期：2024-08-20 |
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