Effect of Gate Dielectric to the Threshold Voltage of 65 nm NMOS Structure - 科研通

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标题	Effect of Gate Dielectric to the Threshold Voltage of 65 nm NMOS Structure 相关领域 NMOS逻辑阈值电压栅氧化层材料科学光电子学氧化物晶体管栅极电介质过驱动电压电压电介质等效氧化层厚度 MOSFET 电气工程工程类冶金
网址	https://doi.org/10.1063/1.3160209
DOI	10.1063/1.3160209 doi
其它	期刊：AIP conference proceedings 作者：M. Y. Yunus; M. Rusop; M. Rusop; Tetsuo Soga 出版日期：2009-01-01
求助人	戚金凤在 2025-11-13 16:15:53 发布自北京，悬赏 10 积分
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