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 Hybrid reactant-enabled atomic layer deposition of HfO2 for enhancing metal-insulator-metal capacitor fabricated on TiN electrode 用于增强锡电极上金属-绝缘体-金属电容器的HfO2混合反应物原子层沉积
相关领域
材料科学
原子层沉积
锡
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期刊：Materials Today Communications 作者：In Gyu Lee; Woo Young Park; Young Uk Ryu; Woojin Jeon 出版日期：2024-06-27 |
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