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Atomic layer deposition of MoO2 using a tetravalent precursor for template-driven rutile TiO2 growth in DRAM capacitors |
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期刊:Applied Surface Science 作者:Yoonchul Shin; Yeon-Ji Jeon; Ji Hwan Kim; Chan-Bin Hong; Chang Mo Yoon; et al 出版日期:2026-05-01 |
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(2025-6-4)