Design and evaluation of novel capping layers for advanced EUV masks

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标题	Design and evaluation of novel capping layers for advanced EUV masks
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.3118005
DOI	10.1117/12.3118005 doi
其它	期刊：Photomask Technology 2026 作者：Daijiro Akagi; Takeshi Tomizawa; Keishi Tsukiyama 出版日期：2026-10-30
求助人	ADChem_JH 在 2026-11-02 07:31:40 发布自安徽，悬赏 20 积分
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