Disconnection of NiSi shared contact and its correction using NH3 soak treatment in Ti/TiN barrier metallization

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标题	Disconnection of NiSi shared contact and its correction using NH3 soak treatment in Ti/TiN barrier metallization 相关领域脱氧锡硅材料科学氧化物接触电阻氧化锡氧化硅冶金无机化学图层（电子）复合材料化学氮化硅
网址	https://doi.org/10.1109/IRPS.2010.5488688
DOI	10.1109/IRPS.2010.5488688 doi
其它	期刊：2010 IEEE International Reliability Physics Symposium 作者：Takuya Futase; Kota Funayama; Naoto Hashikawa; Hiroshi Tobimatsu; Hirohiko Yamamoto; Hisanori Tanimoto 出版日期：2010
求助人	研友_LmAaQL 在 2022-08-17 21:20:51 发布自安徽，悬赏 10 积分
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