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 In-situ PECVD-based stoichiometric SiO2 layer for semiconductor devices 相关领域
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期刊：Optical Materials 作者：Duy Phong Pham; Hongrae Kim; Jiwon Choi; Donghyun Oh; Yung-Bin Chung; et al 出版日期：2023-03-01 |
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