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 Characterizing macroscopic lateral distortion in nanoimprint lithography using moiré interferometry 云纹干涉法表征纳米压印光刻中的宏观横向畸变
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Xianglu Dai; Huimin Xie; Feng‐Rong Dai; Shuji Kishimoto 出版日期：2016-02-01 |
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