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Thermal atomic layer etching of amorphous and crystalline Al2O3 films 非晶态和晶态Al2O3薄膜的热原子层刻蚀
相关领域
无定形固体
材料科学
氧化物
金属
蚀刻(微加工)
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无机化学
化学工程
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化学
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工程类
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期刊:Journal of vacuum science & technology 作者:Jessica A. Murdzek; Adarsh Rajashekhar; Raghuveer S. Makala; Steven M. George 出版日期:2021-06-09 |
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