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Isotropic plasma-thermal atomic layer etching of aluminum nitride using SF6 plasma and Al(CH3)3 SF6等离子体和Al(CH3)3各向同性等离子体-热原子层刻蚀氮化铝
相关领域
材料科学
等离子体
蚀刻(微加工)
氮化物
表面粗糙度
各向同性
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等离子体刻蚀
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分析化学(期刊)
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铝
反应离子刻蚀
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者:Haozhe Wang; Azmain A. Hossain; David S. Catherall; Austin J. Minnich 出版日期:2023-05-01 |
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