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标题
Temperature control system based on Active Disturbance Rejection Control and its parameter optimization in large-sized monolithic silicon epitaxy equipment reactor
大尺寸单片硅外延设备反应器中基于自抗扰控制的温度控制系统及其参数优化
相关领域
外延 控制(管理) 控制理论(社会学) 扰动(地质) 材料科学 光电子学 温度控制 计算机科学 工程类 控制工程 生物 纳米技术 古生物学 人工智能 图层(电子)
网址
DOI
10.1016/j.jprocont.2025.103430 doi
其它 期刊:Journal of Process Control
作者:J. Suo; Bo Jin; Lingfeng Zhu; Wenjie Shen
出版日期:2025-04-10
求助人
mniat 在 2025-12-06 16:26:52 发布自辽宁,悬赏 10 积分
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  • 9个月前

    mniat mniat Lv5 求助人 驳回了 今后 上传的文件

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    和我实际求助文章不服,我是过程控制期刊他都今日纳米了
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  • 9个月前

    mniat mniat Lv5 求助人 发起了本次求助

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