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Top-Down Fabrication of Bulk-Insulating Topological Insulator Nanowires for Quantum Devices 量子器件用体绝缘拓扑绝缘体纳米线的自上而下制备
相关领域
制作
拓扑绝缘体
纳米线
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材料科学
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期刊:Nano Letters 作者:Matthias Rößler; Dingxun Fan; Felix Münning; Henry F. Legg; Andrea Bliesener; et al 出版日期:2023-03-28 |
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