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 Fabrication of low interface dipole layer on Al2O3/SiO2/Si structure by densification of interfacial layer 界面层致密化制备Al2O3/SiO2/Si结构低界面偶极层
相关领域
材料科学
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期刊：Journal of Alloys and Compounds 作者：Ryun Na Kim; Hye Won Yun; Jinho Lee; Seong‐Ho Baek; Woo‐Byoung Kim 出版日期：2021-11-30 |
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ywwsnowboy
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