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标题
Hole Conduction of Tungsten Diselenide Crystalline Transistors by Niobium Dopant
铌掺杂剂对二硒化钨晶体晶体管空穴传导的影响
相关领域
二硒化钨 材料科学 兴奋剂 掺杂剂 光电子学 铌 晶体管 双极扩散 费米能级 晶体硅 表征（材料科学） 纳米技术 凝聚态物理 硅 过渡金属 电气工程 电子 冶金 电压 催化作用 化学 工程类 物理 量子力学 生物化学
网址
https://doi.org/10.1002/aelm.201800695
DOI
10.1002/aelm.201800695 doi
其它 期刊：Advanced Electronic Materials
作者：Dongil Chu; Eun Kyu Kim
出版日期：2018-11-28
求助人
生动元蝶 在 2025-07-27 21:04:11 发布自中国，悬赏 10 积分
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