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 Hardmask technology for sub-100 nm lithographic imaging 用于亚100nm光刻成像的硬掩模技术
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Katherina Babich; Arpan P. Mahorowala; David R. Medeiros; Dirk Pfeiffer; Karen Petrillo; et al 出版日期：2003-06-11 |
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