Hardmask technology for sub-100 nm lithographic imaging

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标题	Hardmask technology for sub-100 nm lithographic imaging 用于亚100nm光刻成像的硬掩模技术相关领域抵抗材料科学防反射涂料制作光电子学蚀刻（微加工）图层（电子）电介质纳米技术等离子体刻蚀平版印刷术涂层薄膜医学替代医学病理
网址	https://doi.org/10.1117/12.485174
DOI	10.1117/12.485174 doi
其它	期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Katherina Babich; Arpan P. Mahorowala; David R. Medeiros; Dirk Pfeiffer; Karen Petrillo; et al 出版日期：2003-06-11
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