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 Influence of Intrinsic Silicon Layer and Intermediate Silicon Oxide Layer on the Performance of Inline PECVD Deposited Boron-Doped TOPCon 相关领域
材料科学
等离子体增强化学气相沉积
钝化
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硅
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期刊：IEEE Journal of Photovoltaics 作者：Angelika Harter; Jana‐Isabelle Polzin; Leonard Tutsch; Jan Temmler; Marc Hofmann; et al 出版日期：2021-04-30 |
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