| 标题 |
  Promoting effect of interfacial hole accumulation on photoelectrochemical water oxidation in BiVO4 and Mo doped BiVO4 BiVO4和Mo掺杂BiVO4中界面空穴积累对光电化学水氧化的促进作用
相关领域
兴奋剂
材料科学
化学工程
化学
光电子学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Advanced powder materials 作者：Xiaofeng Wu; F. Palacio; Shixin Chang; Marcus Einert; Qingyang Wu; et al 出版日期：2024-09-19 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
鸣笛
Dean
不安青牛
aaa
kingwill
XCL
GingerF
馆长
YSM
细心书琴
阿皓要发nature
挖掘机
zbs
坚强含之
聪慧小霜
司空豁
小邸
LaTeXer
恋雅颖月
皖公网安备34019202002308
