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标题
Fabrication and Properties of GaN MIS Capacitors with a Remote-Plasma Atomic-Layer-Deposited Al2O3 Gate Dielectric
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电容器 材料科学 制作 原子层沉积 光电子学 电介质 图层(电子) 等离子体 栅极电介质 远程等离子体 纳米技术 晶体管 电气工程 电压 化学气相沉积 物理 医学 替代医学 病理 量子力学 工程类
网址
DOI
10.3938/jkps.54.707 doi
其它 期刊:Journal of the Korean Physical Society
作者:Hyeong-Seon Yun; Kwang Ho Kim
出版日期:2009-02-14
求助人
CipherSage 在 2025-10-10 17:05:43 发布自陕西,悬赏 10 积分
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