| 标题 |
 High performance Si immersion gratings patterned with electron beam lithography 电子束光刻制作高性能硅浸没式光栅
相关领域
浸没式光刻
电子束光刻
材料科学
平版印刷术
光电子学
下一代光刻
抵抗
极紫外光刻
阴极射线
模版印刷
沉浸式（数学）
X射线光刻
光学
电子
纳米技术
物理
图层（电子）
数学
量子力学
纯数学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Michael Gully-Santiago; D. T. Jaffe; Cynthia B. Brooks; Daniel W. Wilson; Richard E. Muller 出版日期：2014-07-28 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
神勇映雁
Nole
极限001
Lingeek
Criminology34
DIVINEDC
Verity
GingerF
学术文献互助
哈哈哈
6666
积极凌旋
Zhou
阿水
Oracle
ilmadf
谷雷努
早茶的馄饨
清爽老九
刘厚麟
皖公网安备34019202002308
