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 Study on structural, morphological and electrical properties of sputtered titanium nitride films under different argon gas flow 不同氩气流量下溅射氮化钛薄膜的结构、形貌和电学性能研究
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期刊：Materials Chemistry and Physics 作者：Nishat Arshi; Junqing Lu; Yun Kon Joo; Chan Gyu Lee; Jae Hong Yoon; et al 出版日期：2012-04-28 |
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