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标题
Etching characteristics of hydrogenated amorphous carbon with different sp2/sp3 hybridization ratios in CF4/O2 plasmas
不同sp2/sp3杂化比氢化非晶碳在CF4/O2等离子体中的刻蚀特性
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1002/ppap.202100075
DOI
10.1002/ppap.202100075 doi
其它 期刊：Plasma Processes and Polymers
作者：Jie Li; Sun Jung Kim; Seung-Hun Han; Yong‐Jae Kim; Heeyeop Chae
出版日期：2021-08-26
求助人
waye131 在 2025-07-08 17:13:10 发布自上海，悬赏 10 积分
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