Plasma etching of Si and SiO2—The effect of oxygen additions to CF4 plasmas

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标题	Plasma etching of Si and SiO2—The effect of oxygen additions to CF4 plasmas
网址	https://pubs.aip.org/aip/jap/article-pdf/49/7/3796/18380471/...
DOI	10.1063/1.325382 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：C. Mogab; A. C. Adams; D. Flamm 出版日期：1978-07-01
求助人	喝汤一样在 2026-07-28 21:55:18 发布自江苏，悬赏 10 积分
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