Focus ring geometry influence on wafer edge voltage distribution for plasma processes

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标题	Focus ring geometry influence on wafer edge voltage distribution for plasma processes
网址	https://doi.org/10.1116/6.0000981
DOI	10.1116/6.0000981 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Yuhua Xiao; Yao Du; Carl L. Smith; Sang Ki Nam; Hoki Lee; et al 出版日期：2021-06-11
求助人	gooster 在 2026-07-23 16:32:00 发布自上海，悬赏 10 积分
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