Fundamental understanding of exposure and process chemistry of Sn-based metal oxide resists: effects of ambient environment during post-exposure delay and bake

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标题	Fundamental understanding of exposure and process chemistry of Sn-based metal oxide resists: effects of ambient environment during post-exposure delay and bake
网址	https://doi.org/10.1117/1.jmm.25.1.014601
DOI	10.1117/1.jmm.25.1.014601 doi
其它	期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Ivan Pollentier; Fabian Holzmeier; Roberto Fallica; Ying-Lin Chen; Dhirendra P. Singh; et al 出版日期：2026-02-24
求助人	六便士在攒在 2026-08-05 15:53:56 发布自安徽，悬赏 20 积分
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