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Improving the Optical Properties of SiNx:H Thin Film by Optimizing NH3:SiH4 Gas Ratio Using Plasma‐Enhanced Chemical Vapor Deposition |
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期刊:Energy Technology 作者: Alamgeer; Hasnain Yousuf; Muhammad Quddamah Khokhar; Jaljalalul Abedin Jony; Rafi ur Rahman; et al 出版日期:2024-08-10 |
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