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 Analysis of film stress in Mo/Si multilayers for EUV mask blanks 相关领域
材料科学
双层
压力（语言学）
硅
复合材料
退火（玻璃）
极紫外光刻
图层（电子）
抗压强度
切片
波长
极限抗拉强度
钼
沉积（地质）
光学
薄脆饼
薄膜
残余应力
应力松弛
压缩（物理）
光电子学
溅射沉积
堆积
应力集中
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| DOI |
10.1117/12.3072138
doi
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| 其它 |
期刊：Photomask Technology 2025 作者：Katrina Rook; Paul Turner; Antonio Checco; Mohammad Saghayezhian; Meng H. Lee; et al 出版日期：2025-11-06 |
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