| 标题 |
Fundamental characterization of silicon-containing spin-on hardmask for 193nm photolithography |
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| DOI |
10.1117/12.659102
doi
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| 其它 |
期刊:SPIE Advanced Lithography 作者:V. Sipani; Y. Hishiro; M. K. Abatchev 出版日期:2006-03-10 |
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(2025-6-4)