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标题
Effect of Microstructure on the Electromigration Performance of 2- μm-Cu Redistribution Line under In-situ SEM Observation
网址
DOI
10.1109/icsj62869.2024.10804753 doi
其它 期刊:2024 IEEE CPMT Symposium Japan (ICSJ)
作者:Min-Yan Tsai; Ting-Chun Lin; Yen-Cheng Huang; Shan-Bo Wang; Yung-Sheng Lin; et al
出版日期:2024-12-25
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陈子豪 在 2026-09-05 16:22:21 发布自福建,悬赏 10 积分
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