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标题
Research progress of interfacial adhesion force of copper plating on Ajinomoto build-up films for chip substrates
芯片基片用味之素成膜镀铜界面附着力的研究进展
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材料科学 微电子 环氧树脂 电介质 制作 固化(化学) 聚合物 粘附 复合材料 电镀(地质) 镀铜 纳米技术 冶金 光电子学 电镀 图层(电子) 病理 地质学 医学 替代医学 地球物理学
网址
DOI
10.1016/j.mtcomm.2023.107201 doi
其它 期刊:Materials today communications
作者:Shanjun Ding; Zhidan Fang; Zhongyao Yu; Qidong Wang
出版日期:2023-09-26
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张成协 在 2025-07-03 12:26:26 发布自广东,悬赏 10 积分
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