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标题
Barrier Height, Ideality Factor and Role of Inhomogeneities at the AlGaN/GaN Interface in GaN Nanowire Wrap-Gate Transistor
GaN纳米线缠绕栅晶体管中AlGaN/GaN界面的势垒高度、理想因子和不均匀性的作用
相关领域
材料科学 纳米线 晶体管 同质性（统计学） 光电子学 纳米尺度 半导体 阻挡层 凝聚态物理 电压 纳米技术 图层（电子） 物理 数学 统计 量子力学
网址
https://www.mdpi.com/2079-4991/13/24/3159/pdf?version=170280...
AI链接 mdpi.com mdpi.com nih.gov nih.gov nih.gov doaj.orgdoi.org
DOI
10.3390/nano13243159 doi
其它 期刊：Nanomaterials
作者：Siva Pratap Reddy Mallem; Peddathimula Puneetha; Yeojin Choi; Seung Mun Baek; Dong-Yeon Lee; et al
出版日期：2023-12-17
求助人
尖尖 在 2025-12-04 14:18:01 发布自江西，悬赏 10 积分
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