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标题
Doped Silicon Oxide Deposition by Atmospheric Pressure and Low Temperature Chemical Vapor Deposition Using Tetraethoxysilane and Ozone
使用四乙氧基硅烷和臭氧的常压和低温化学气相沉积掺杂氧化硅
相关领域
化学气相沉积 沉积（地质） 材料科学 硅烷 分析化学（期刊） 兴奋剂 退火（玻璃） 硼硅酸盐玻璃 硅 化学工程 化学 复合材料 纳米技术 冶金 光电子学 有机化学 古生物学 工程类 生物 沉积物
网址
https://doi.org/10.1149/1.2085358
DOI
10.1149/1.2085358 doi
其它 期刊：Journal of The Electrochemical Society
作者：K. Fujino; Yuko Nishimoto; N. Tokumasu; K. Maeda
出版日期：1991-10-01
求助人
YYYY 在 2025-12-16 11:17:03 发布自北京，悬赏 10 积分
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