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  Intensity modulation based optical proximity optimization for the maskless lithography 基于强度调制的无掩模光刻光学邻近优化
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无光罩微影
数字微镜装置
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期刊：Optics Express 作者：Jianghui Liu; Junbo Liu; Qingyuan Deng; Jinhua Feng; Shaolin Zhou; et al 出版日期：2019-12-23 |
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