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标题
Intensity modulation based optical proximity optimization for the maskless lithography
基于强度调制的无掩模光刻光学邻近优化
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网址
https://doi.org/10.1364/oe.381503
AI链接 doi.org nih.govdoi.org
DOI
10.1364/oe.381503 doi
其它 期刊：Optics Express
作者：Jianghui Liu; Junbo Liu; Qingyuan Deng; Jinhua Feng; Shaolin Zhou; et al
出版日期：2019-12-23
求助人
王十一 在 2025-12-30 21:20:25 发布自中国，悬赏 10 积分
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