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标题
Exploration of resist effect in source mask optimization
源掩模优化中抗蚀剂效应的探索
相关领域
抵抗 平版印刷术 光刻胶 材料科学 电子束光刻 计算机科学 光学 纳米技术 光电子学 物理 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1117/12.2297376
DOI
10.1117/12.2297376 doi
其它 期刊：
作者：Ao Chen; Yee Mei Foong; Jae Yeol Maeng; Nikhil Jain; Steve McDermott
出版日期：2018-03-20
求助人
酷炫念柏 在 2026-01-01 14:45:01 发布自上海，悬赏 20 积分
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