| 标题 |
 Pupil, mask, wavefront co-optimization for enhanced EUV patterning: reducing LWR and evaluating overlay 相关领域
极紫外光刻
覆盖
极端紫外线
光学（聚焦）
平版印刷术
波前
光学
计算机科学
材料科学
降级（电信）
电子工程
焦点深度（构造）
多重图案
过程（计算）
表面光洁度
进程窗口
光电子学
紫外线
抵抗
光刻
表面粗糙度
常量（计算机编程）
工作（物理）
吞吐量
计量学
可靠性工程
还原（数学）
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| 网址 | |
| DOI |
10.1117/12.3072616
doi
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| 其它 |
期刊： 作者：Christopher J. Kaplan; Cyrus Tabery; Qiang Li; De‐Zheng Sun; Gerui Liu; et al 出版日期：2025-11-06 |
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(2025-6-4)
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