EUV-LET 2.0: a compact exposure tool for industrial research at a wavelength of 13.5nm

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标题	EUV-LET 2.0: a compact exposure tool for industrial research at a wavelength of 13.5nm EUV-LET 2.0：用于工业研究的紧凑型曝光工具，波长为13.5 nm 相关领域极紫外光刻光学极端紫外线材料科学光电子学抵抗消色差透镜平版印刷术薄脆饼波长物理纳米技术激光器图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.2513755
DOI	10.1117/12.2513755 doi
其它	期刊：作者：Sascha Brose; Serhiy Danylyuk; Lukas Bahrenberg; R. Lebert; Jochen Stollenwerk; et al 出版日期：2019-03-26
求助人	Little Mianmian 在 2025-09-05 10:35:31 发布自浙江，悬赏 20 积分
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