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 Alternative developer solution/process for EUV lithography: ethyltrimethylammonium hydroxide (ETMAH) 用于EUV光刻的替代显影剂溶液/工艺：乙基三甲基氢氧化铵(ETMAH)
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期刊： 作者：Julius Joseph Santillan; Masahiko Harumoto; Tomohiro Motono; Andreia Figueiredo dos Santos; Chisayo Mori; et al 出版日期：2021-02-19 |
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