Enlarging focal depth using epsilon-near-zero metamaterial for plasmonic lithography

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标题	Enlarging focal depth using epsilon-near-zero metamaterial for plasmonic lithography 利用ε近零超材料扩大等离子体光刻焦深相关领域光学平版印刷术材料科学超材料等离子体子电子束光刻贝塞尔光束光刻光刻胶栅栏表面等离子体子下一代光刻梁（结构） X射线光刻等离子透镜无光罩微影光电子学表面等离子体激元图层（电子）抵抗物理纳米技术
网址	https://doi.org/10.1364/ol.389369 AI链接 nih.govdoi.org
DOI	10.1364/ol.389369 doi
其它	期刊：Optics Letters 作者：Qijian Jin; Gaofeng Liang; Gang Chen; Fen Zhao; Shaokui Yan; et al 出版日期：2020-05-07
求助人	好好在 2025-10-27 08:27:38 发布自江苏，悬赏 10 积分
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