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[高分] Nanofabrication at a 10 nm length scale: Limits of lift-off and electroplating transfer processes
10 nm长度尺度的纳米制造：剥离和电镀转移工艺的极限
相关领域
抵抗 电镀 电子束光刻 制作 纳米光刻 材料科学 平版印刷术 激光线宽 浸没式光刻 Lift（数据挖掘） 光学 光电子学 纳米技术 激光器 物理 医学 替代医学 图层（电子） 病理 计算机科学 数据挖掘
网址
https://doi.org/10.1051/jp4:1999214
DOI
10.1051/jp4:1999214 doi
其它 期刊：Journal de Physique IV (Proceedings)
作者：Anne‐Marie Haghiri‐Gosnet; C. Vieu; G. Simon; M. Mejias; F. Carcenac; et al
出版日期：1999-02-01
求助人
快看文献 在 2025-10-27 08:26:58 发布自黑龙江，悬赏 50 积分
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