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[高分]
 Stochastic Modeling and Local CD Uniformity Comparison between Negative Metal-Based, Negative- and Positive-Tone Development EUV Resists 负金属基、负色调和正色调显影EUV抗蚀剂的随机建模和局部CD均匀性比较
相关领域
抵抗
极紫外光刻
材料科学
纳米技术
图层（电子）
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期刊：IEICE Transactions on Electronics 作者：Itaru Kamohara; Ulrich Welling; Ulrich Klostermann; Wolfgang Demmerle 出版日期：2021-08-05 |
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