Unravelling the doping mechanism and origin of carrier limitation in Ti-doped In2O3 films

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标题	Unravelling the doping mechanism and origin of carrier limitation in Ti-doped In2O3 films Ti掺杂In2O3薄膜的掺杂机理及载流子限制的成因相关领域兴奋剂 X射线光电子能谱材料科学溅射氧气电阻率和电导率基质（水族馆）薄膜金属分析化学（期刊）电导率霍尔效应溅射沉积化学工程化学纳米技术物理化学冶金光电子学海洋学电气工程有机化学色谱法地质学工程类
网址	https://doi.org/10.1063/5.0175864
DOI	10.1063/5.0175864 doi
其它	期刊：Journal of applied physics 作者：Ann-Katrin Emmerich; Kim Alexander Creutz; Yaw-Yeu Cheng; Jean-Christophe Jaud; Andreas H. Hubmann; et al 出版日期：2024-01-02
求助人	小田在 2024-04-26 09:38:47 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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