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TrueMask® ILT MWCO: Full-chip curvilinear ILT in a day and full mask multi-beam and VSB writing in 12 hrs for 193i TrueMask®ILT MWCO:对于193i,一天内完成全芯片曲线ILT,12小时内完成全掩模多波束和VSB写入
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期刊: 作者:Linyong Pang; Jeffrey E. Ungar; Ali Bouaricha; Sha Lu; Michael Pomerantsev; et al 出版日期:2020-03-25 |
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