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Back Propagation Neural Network-Based Predictive Model for Magnetorheological–Chemical Polishing of Silicon Carbide 基于反向传播神经网络的碳化硅磁流变化学抛光预测模型
相关领域
抛光
磨料
材料科学
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碳化硅
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阻尼器
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期刊:Micromachines 作者:Huazhuo Liang; Wenjie Chen; Youzhi Fu; Wenjie Zhou; Ling Mo; et al 出版日期:2025-02-27 |
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