| 标题 |
 High-NA mask phase-effects studied by AIMS EUV 相关领域
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| DOI |
10.1117/12.3010001
doi
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| 其它 |
期刊：Optical and EUV Nanolithography XXXVII 作者：Matthias Roesch; Grizelda Kersteen; Andreas Verch; Maximilian Albert; Philip Heringlake; et al 出版日期：2024-02-24 |
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